<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>פלט on UV Curing Lab</title>
		<link>http://uv-curing-lab.com/he/tags/%D7%A4%D7%9C%D7%98/</link>
		<description>Recent content in פלט on UV Curing Lab</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>he</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 09:22:41 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-lab.com/he/tags/%D7%A4%D7%9C%D7%98/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>הפלט הספקטרלי של נורת ה UV לגליום</title>
				<link>http://uv-curing-lab.com/he/posts/spectral-output-of-gallium-uv-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 09:22:41 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-lab.com/he/posts/spectral-output-of-gallium-uv-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-lab.com/images/fdbee480fb33f240ebe21b59374e7e95.png&#34; alt=&#34;הפלט הספקטרלי של נורת ה UV לגליום&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;על המכונה, כשאנו מדברים על שיטת “ריסוס וייבוש” במסכי הדפסה, אנו מתכוונים לדבר אחד בלבד: לשמור על מהירות העבודה. אם העבודה נעצרת בזמן ההמתנה שהדיו יתייצב, הקצב של ההדפסה יורד. בדרך כלל, המכונה אינה הגורם המגביל – הגורם המגביל הוא תהליך הייצוב של הדיו.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;כאן נכנסות לתמונה מנורות UV בעלות תגובה מהירה. הן מספקות את האנרגיה הדרושה כדי לייצב את הדיו, והפלט הספקטרלי של מנורות גליום-דופדף הוא זה שמאפשר זאת.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;החלק הטכני החשוב הוא הפרופיל הספקטרלי. מנורות UV המבוססות על גליום מזיזות את הפליטה של אדי הכספית לקו 365 ננומטר, ובכך מפחיתות את האורכי הגל הארוכים שגורמים לחום עודף בחומר ההדפסה. הפלט הממוקד הזה מתאים לספיגה של החומרים הפוטואיניציאטוריים בדיו, כך שתהליך הקישור בין החומרים מתרחש במהירות, מבלי שטמפרטורת החומר ההדפסה תעלה.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
